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混合离子束溅射薄膜沉积系统-公开招标公告

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招标公告混合离子束溅射薄膜沉积系统项目已具备招标条件。资金来源为专项资金，****（招标代理机构）受中国科学院光电技术研究所（招标人）的委托，对该项目进行国际公开招标采购。 1. 招标范围 1.1货物名称：混合离子束溅射薄膜沉积系统。 1.2招标编号：XXXXXA027。 1.3主要功能要求:混合离子束溅射薄膜沉积系统主要由****真空系统、离子束溅射系统、基片装载和运动系统，、基片加热系统、光学膜厚控制系统等组成，具备人工操作和全自动薄膜沉积控制功能。 1.4主要技术要求： ①　真空室极限真空≤2x10-7mbar，真空室漏率≤5.0x10-5 mbar.l/s； ②　双离子源均为射频源，其中主离子源离子束直径≥15cm，最大离子能量>1keV，最大离子束流≥600mA，辅助离子源离子束直径≥8cm； ③　镀膜光学元件要求：最大直径≥ Φ500mm，重量≥50kg； ④　膜厚非均匀性要求：Φ500mm口径非均匀性≤±0.5%； 1.5数量：2套。 1.6交货期：...

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