河北招标网:介质膜沉积与刻蚀系统【重新招标】招标公告-安华招标网

介质膜沉积与刻蚀系统【重新招标】招标公告

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招标编号：0618-234TC23120F9****受西安精微XXXXX公司委托，对下列产品及服务进行国际公开竞争性招标，于2023年6月28日发布招标公告，现邀请合格投标人参加投标。1.招标条件1.1项目名称：介质膜沉积与刻蚀系统 1套1.2资金到位或资金来源落实情况：资金已落实1.3项目已具备招标条件的说明：已具备2.招标内容2.1项目实施地点：陕西省西安市2.2招标产品列表：序号产品名称数量交货期1介质膜沉积与刻蚀系统1套合同签订生效之日起8个月内 2.3简要技术规格：介质膜沉积与刻蚀系统用于MEMS芯片微结构制造过程中氮化硅和氧化硅介质掩膜制备，其由PECVD等离子体增强化学气相沉积设备1台、RIE反应离子刻蚀机1台等组成（提供分项报价）。主要技术指标：适用6英寸圆片。射频系统配置有低频和****频双射频源；沉积效率≥6片/小时（6英寸1μm厚度SiO2标准片，含片间清洗、烘片、吹扫等环节）；载片台控温范围不小于50~400℃，控温精度优于±1℃；膜层均匀性、重复性优于±3%；沉积SiNx、SiO2速率≥600?/min；刻蚀效率≥6片/小时（6英寸热氧SiO2标准片，刻蚀深...

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